[实用新型]一种PECVD特气管路有效
申请号: | 201920978763.1 | 申请日: | 2019-06-27 |
公开(公告)号: | CN210560740U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 赵洪俊;宛正 | 申请(专利权)人: | 阜宁苏民绿色能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50;H01L31/18 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 刘妍妍 |
地址: | 224400 江苏省盐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型为太阳电池领域,具体涉及一种PECVD特气管路,包括特气管,与其相连通的管道组件,所述特气管上均匀开设气孔;所述气孔面积相同,呈直线排列,其开孔方向面向硅片;所述管道组件包括相连通的第一管道组件、第二管道组件、第三管道组件和三通接头;所述气孔包括气孔本体和气流引导装置,所述气流引导装置位于气孔本体外侧,所述气流引导装置从上到下横截面逐渐缩小,包括第一引导装置和第二引导装置,所述第一引导装置位于第二引导装置下方,所述第二引导装置的高度为第一引导装置的一半。本实用新型所述的PECVD特气管路能够优化气流的均匀性,减少生产过程中的气孔堵塞,降低设备维护成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 管路 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的