[实用新型]磁控管及磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201921035886.8 | 申请日： | 2019-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN210420141U | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 耿波;罗建恒;王磊;杨玉杰;杨帆;陈鑫;寇旭亮;王大男;王厚工 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供的磁控管，包括极性相反的内磁极和外磁极，外磁极包围内磁极设置，且内磁极和外磁极之间具有间隙，并且，在内磁极的延伸方向上不同位置处至旋转中心的距离不同。在本实用新型中，对内磁极的分部半径进行调整，使内磁极不同分部至旋转中心的距离不同，如此设置，即便在高气压且射频与直流同时溅射时，也能够实现全靶腐蚀，避免靶材腐蚀不均匀的现象产生。本实用新型还提供了一种磁控溅射设备。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控管 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
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