[实用新型]一种垂直腔面发射激光器及其密集型阵列结构有效

专利信息
申请号: 201921038909.0 申请日: 2019-07-05
公开(公告)号: CN209948329U 公开(公告)日: 2020-01-14
发明(设计)人: 李明欣;杨旭;张岩松 申请(专利权)人: 武汉仟目激光有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/42
代理公司: 11228 北京汇泽知识产权代理有限公司 代理人: 吴静
地址: 430205 湖北省武汉市中国(湖北)自贸区武汉片*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种垂直腔面发射激光器及其密集型阵列结构,包括隔离层:其包括圆形部分和从圆形部分的圆周向外延伸的一个或多个延伸部分;P‑型金属层:其包括一个或多个分离的不规则形状部分,不规则形状部分由近似矩形的外侧部分和近似梯形的内侧部分组成,隔离层的延伸部分完全或部分覆盖P‑型金属层;一个或多个电介质通孔开口:其分别位于P‑型金属层的一个或多个不规则形状部分之上;多个氧化槽:多个氧化槽沿隔离层的圆形部分的圆周外间隔排布且于隔离层的延伸部分两侧,相邻两延伸部分之间分布有至少一个氧化槽。本实用新型在缩小VCSEL芯片尺寸的同时不影响VCSEL芯片性能,并提升现有垂直腔面发射激光器(VCSEL)阵列的密集程度。
搜索关键词: 隔离层 不规则形状 金属层 氧化槽 延伸 垂直腔面发射激光器 电介质 本实用新型 间隔排布 近似矩形 近似梯形 通孔开口 阵列结构 圆周向 覆盖
【主权项】:
1.一种垂直腔面发射激光器,其特征在于,包括:/n隔离层:其包括圆形部分和从所述圆形部分的圆周向外延伸的一个或多个延伸部分;/nP-型金属层:其包括一个或多个分离的不规则形状部分,所述隔离层的延伸部分完全或部分覆盖所述P-型金属层的不规则形状部分;/n一个或多个电介质通孔开口:一个或多个所述电介质通孔开口分别位于所述P-型金属层的一个或多个所述不规则形状部分之上;/n多个氧化槽:多个所述氧化槽沿所述隔离层的圆形部分的圆周外间隔排布且于所述隔离层的延伸部分两侧,相邻两所述延伸部分之间分布有至少一个氧化槽。/n
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