[实用新型]一种均匀润湿的大米抛光装置

摘要

本实用新型公开了一种均匀润湿的大米抛光装置，涉及大米加工技术领域，包括抛光箱，所述抛光箱的上端设置进料斗，进料斗的出料端设置导料管，导料管上设置调节米粒进料速度的进料调节结构，所述导料管的出料端的下方设置进料管，所述进料管的两侧设置雾化喷头，本实用新型中的雾化喷头对大米进行湿润，使大米外部包裹水层，增强抛光的效果，提高大米的表面光洁度，同时通过进料调节装置调节大米进料的速度，使大米可单层进过雾化喷头之间，保证水分和米粒的接触均匀，保证抛光效果。