[实用新型]一种常压微波等离子体化学气相沉积镀膜设备有效
申请号: | 201921054274.3 | 申请日: | 2019-07-08 |
公开(公告)号: | CN210261992U | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 张智恒;易敏龙;潘志豪 | 申请(专利权)人: | 香港生产力促进局 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 武君 |
地址: | 中国香港九*** | 国省代码: | 香港;81 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种常压微波等离子体化学气相沉积镀膜设备,包括微波等离子体发生装置、前置物注入装置和工件承托台,所述微波等离子体发生装置包括一放电石英管,放电石英管沿其轴向穿设于一电磁波发射器内,放电石英管入口端连接涡流注射器,涡流注射器另一端连接等离子体气源,放电石英管出口端设置有等离子体喷嘴,所述邻近等离子体喷嘴还设置一电弧产生器,所述前置物注入装置包括前置物气源和前置物喷嘴,所述前置物喷嘴与等离子体喷嘴相连接,且位于工件承托台上方。本实用新型的常压微波等离子体化学气相沉积镀膜设备可透过微波能量及常压环境之下沉积涂层,从而增强不同产品部件表面的防污功能,使产品寿命延长。 | ||
搜索关键词: | 一种 常压 微波 等离子体 化学 沉积 镀膜 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的