[实用新型]一种MPCVD装置及其托盘有效
申请号: | 201921092670.5 | 申请日: | 2019-07-12 |
公开(公告)号: | CN210560744U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 闫宁;吴啸;郭兴星;潘红星 | 申请(专利权)人: | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/511 |
代理公司: | 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 | 代理人: | 贾东东 |
地址: | 450000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种MPCVD装置及其托盘。MPCVD装置包括冷却台,冷却台上放置托盘,托盘的下侧面上于托盘中心处设有向下凸出布置的中心导热凸起,以及至少一个环形的外侧导热凸起,外侧导热凸起间隔设置于中心导热凸起外侧,中心导热凸起和外侧导热凸起分别具有下导热支撑面,以与冷却台导热支撑配合,中心导热凸起和外侧导热凸起均关于托盘中心对称布置。本实用新型中,中心导热凸起和外侧导热凸起的下导热支撑面均与冷却台导热支撑配合,以通过中心导热凸起和外侧导热凸起实现为托盘散热的目的,可有效改善托盘上方温度分布不均的问题,有助于提高产品生长过程中在径向上的温度分布均匀性,减小同批次产品的质量差异。 | ||
搜索关键词: | 一种 mpcvd 装置 及其 托盘 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑州磨料磨具磨削研究所有限公司,未经郑州磨料磨具磨削研究所有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201921092670.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种聚氨酯发泡机浇注嘴过滤装置
- 下一篇:一种建筑材料防潮湿存储设备
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的