[实用新型]真空反应腔室和真空镀膜设备

摘要

本实用新型提供一种真空反应腔室和真空镀膜设备，涉及真空设备领域。该真空反应腔室，包括：用于提供真空环境的外腔体，以及位于所述外腔体内的用于进行工艺反应的内反应腔；所述内反应腔的侧壁上设有自动门，所述自动门连接自动门控制器，工件自所述外腔体经所述自动门进入所述内反应腔中。利用该真空反应腔室能够解决现有真空设备中由于只设置一个反应腔室造成的工艺环境易被污染、工艺原料易被浪费、环境温度可控性低等问题，达到降低污染，提高工艺质量的目的。