[实用新型]一种可切换的万用菲林框有效
申请号: | 201921129456.2 | 申请日: | 2019-07-18 |
公开(公告)号: | CN210323764U | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 金红;沈浩 | 申请(专利权)人: | 广德鼎星电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人: | 孙茂义 |
地址: | 242200 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种可切换的万用菲林框,包括:菲林框本体,所述菲林框本体上开设有用于放置菲林的内凹槽,所述菲林与所述内凹槽嵌合连接,所述菲林的两侧分别设置若干用于方便与板材对接的对位孔,所述菲林为上、下双层结构,所述菲林框本体上位于所述菲林的一侧设置有方便上、下两层菲林对位的十字MARK点。本实用新型的万用菲林框,结构简单,安装方便,省时省力,大大节约了菲林成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 切换 万用 菲林框 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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