[实用新型]一种反射面位于静区上方的紧缩场天线测量系统有效

专利信息
申请号: 201921140382.2 申请日: 2019-07-19
公开(公告)号: CN210347782U 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 李德军;陈海波;王昕旸 申请(专利权)人: 北京中测国宇科技有限公司
主分类号: G01R29/10 分类号: G01R29/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100191 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供了一种反射面位于静区上方的紧缩场天线测量系统,包括底座、骨架、可调背架、反射面、馈源、馈源转台、被测天线和天线支架,反射面位于紧缩场静区的正上方,所述反射面通过可调背架固定在骨架上,馈源和馈源转台安装在骨架的横梁上,被测天线水平放置并通过天线支架固定在底座上。该系统结构紧凑,占地面积小,被测天线能够水平放置,安装时无需变换被测天线的姿态,减少了被测天线的安装时间和复杂度,易于实现被测天线的自动化流水线测量。
搜索关键词: 一种 反射 位于 上方 紧缩 天线 测量 系统
【主权项】:
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