[实用新型]一种遮光结构和涂胶显影机有效
| 申请号： | 201921189178.X | 申请日： | 2019-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN210109554U | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 顾飞 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种遮光结构和涂胶显影机，所述遮光结构包括遮光挡片和垂直边框，所述垂直边框设置在所述遮光挡片的边缘处且与所述遮光挡片垂直，所述垂直边框的中部与所述遮光挡片连接。所述遮光结构应用于涂胶显影机的晶圆边缘曝光单元中，当所述遮光结构处于工作状态时，激光器发射的光线照射到所述遮光挡片的对光面和所述垂直边框的内侧，可成功防止反射的光线透过晶圆边缘曝光单元中的缝隙照射到晶圆表面上，从而彻底解决漏光问题，避免出现产品缺陷以及WEE监控器监控失败的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 遮光 结构 涂胶 显影 | ||
【主权项】：
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