[实用新型]一种物理溅射的硬件配置及系统有效
| 申请号： | 201921190611.1 | 申请日： | 2019-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN211897094U | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 卫克拉玛那雅卡·苏尼尔 | 申请（专利权）人： | 爱莱私人有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 | 代理人： | 何葆芳 |
| 地址： | 新加坡共和国乌节路*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种物理溅射的硬件配置，包括一个靶构件，被配置为阴极，用于产生溅射粒子；以及一个基板，用于沉积所述溅射粒子，形成沉积膜。其中，所述靶构件至少包括一个第一靶构件和一个第二靶构件，两者相互独立；所述第一靶构件在其长度方向具有一个基本均匀的第一侵蚀率；以及所述第二靶构件在其长度方向具有一个基本均匀的第二侵蚀率。本实用新型还公开了一种物理溅射的系统，包括上述物理溅射的硬件配置和其它配件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 物理 溅射 硬件 配置 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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