[实用新型]一种硅片清洗液循环系统有效
申请号: | 201921207381.5 | 申请日: | 2019-07-30 |
公开(公告)号: | CN210006704U | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
发明(设计)人: | 信广志;冯艳红;韩萍 | 申请(专利权)人: | 天津创昱达光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 11562 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 宋平 |
地址: | 301803 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种硅片清洗液循环系统,涉及硅片清洗技术领域,针对现有清洗液利用率不高的问题,现提出如下方案,其包括清洗箱,所述清洗箱底端设有出水管,所述出水管底端设有三通,所述出水管底端通过三通分别固定有第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀,所述第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀分别通过连管连接有第一循环箱、第二循环箱、滤水装置,滤水装置侧壁固定有净水箱,所述净水箱内设有抽水泵。本实用新型中,通过第一循环箱和第二循环箱等结构的设置,可以用第一循环箱内的清洗液对硅片进行预洗,第二循环箱内的清洗液对硅片进行精洗,完后第二循环箱内的清洗液可以抽送到第一循环箱中做预洗,节省了清洗液。 | ||
搜索关键词: | 清洗液 循环箱 电磁阀 出水管 本实用新型 第一电磁阀 滤水装置 硅片 底端 预洗 三通 硅片清洗液 硅片清洗 循环系统 抽水泵 净水箱 清洗箱 侧壁 精洗 净水 连管 清洗 | ||
【主权项】:
1.一种硅片清洗液循环系统,包括清洗箱(1),其特征在于,所述清洗箱(1)底端设有出水管(2),所述出水管(2)底端设有三通,所述出水管(2)底端通过三通分别固定有第一电磁阀(3)、第二电磁阀(4)、第三电磁阀(5),所述第一电磁阀(3)、第二电磁阀(4)、第三电磁阀(5)分别通过连管连接有第一循环箱(6)、第二循环箱(7)、滤水装置,滤水装置侧壁固定有净水箱(8),所述净水箱(8)内设有抽水泵,所述净水箱(8)上设有通向清洗箱(1)的水管,所述第一循环箱(6)内腔设有第一水泵(9),所述第二循环箱(7)内设有第二水泵(10)和第三水泵(11),所述第二水泵(10)连接有通向第一循环箱的分液管(12),所述第一水泵(9)、第三水泵(11)均连接有通向清洗箱(1)的输液管(13),所述第一循环箱(6)底端设有第四电磁阀(14),所述第四电磁阀(14)底端通过水管连接有废液箱(15),滤水装置底端设有第五电磁阀(16),所述第五电磁阀(16)底端连接有通向废液箱(15)的水管;/n滤水装置包括滤水箱(17),滤水箱(17)内设有电机(18),所述电机(18)的输出轴端固定有凸轮(19),所述凸轮(19)正面边缘处转动连接有连杆(20),所述连杆(20)的另一端转动连接有活塞(21),所述滤水箱(17)另一端设置有半透膜(22)。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造