[实用新型]半导体材料研磨废水污泥处理系统有效

专利信息
申请号: 201921275091.4 申请日: 2019-08-07
公开(公告)号: CN210506015U 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 李玉飞 申请(专利权)人: 北京亦盛精密半导体有限公司
主分类号: C02F11/122 分类号: C02F11/122
代理公司: 北京东方芊悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11591 代理人: 陈益奇
地址: 100176 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及半导体材料研磨废水污泥处理系统,包括污泥废水池、压滤机、位于压滤机正下方的清水槽、清水池,污泥废水池的池底处设置有排污孔,污泥废水池和压滤机之间设置有第一阀门、水泵、单向阀、三通调节阀,三通调节阀包括输入接口、第一输出接口、第二输出接口,清水槽与清水池之间设置有第二连管,清水槽的槽底设置有第一排水孔。采用所述半导体材料研磨废水污泥处理系统来处理半导体零部件加工中的污泥废水,污泥压滤时间大幅度缩短,处理效率高,处理后的污泥含水量大幅下降,处理后的污泥成干饼状。
搜索关键词: 半导体材料 研磨 废水 污泥 处理 系统
【主权项】:
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