[实用新型]基于光场栅的位移测量装置有效
| 申请号： | 201921300999.6 | 申请日： | 2019-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN210719020U | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 程方;叶瑞芳;苏杭;崔长彩;余卿;王寅 | 申请（专利权）人： | 华侨大学 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人： | 杨依展 |
| 地址： | 362000 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了基于光场栅的位移测量装置，包括测量系统、线性位移工作平台和光电探测器模块；测量系统包括系统光源、半透半反分光平面镜、两激光扩束准直器和两平面反射镜；第一平面反射镜能相对该整体摆动以能调节偏转角度，线性位移工作平台能相对该整体平移和旋转；系统光源发出的一束光入射到半透半反分光平面镜后被分为传播方向互相垂直且能量相等的两束相干光；两束相干光分别经第一激光扩束准直器与第二激光扩束准直器放大直径；通过第一平面反射镜和第二平面反射镜控制光路，使两束相干光都打在线性位移工作平台上表面以能产生两个椭圆光斑。该方法在保证高精度的同时，简化了测量系统的结构，减小了安装误差。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 光场栅 位移 测量 装置 | ||
【主权项】：
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