[实用新型]一种提高区熔单晶均匀性的气掺线圈有效
申请号: | 201921315073.4 | 申请日: | 2019-08-14 |
公开(公告)号: | CN210826435U | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 刘凯;郝大维;万静;王遵义;孙健;谭永麟;孙晨光;王彦君 | 申请(专利权)人: | 天津中环领先材料技术有限公司 |
主分类号: | C30B13/20 | 分类号: | C30B13/20;C30B13/12;C30B29/06 |
代理公司: | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人: | 戴文仪 |
地址: | 300384 天津市滨海新区*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种提高区熔单晶均匀性的气掺线圈,包括带有线圈眼和以线圈眼为中心的十字切缝的线圈主体,其中一个切缝为长切缝,长切缝延伸至线圈主体外圆边沿并位于线圈主体的两个线圈腿中间,还包括以线圈眼为中心设置于线圈主体内的圆弧形的掺杂气路,掺杂气路位于十字切缝的三个短切缝的外侧,掺杂气路的圆弧形的两个端点对称的位于长切缝的两侧且不与长切缝连接;掺杂气路上等间距设有多个气孔;掺杂气路与设于线圈主体内的进气气路连接。本实用新型所述的气掺线圈在线圈主体上直接开设掺杂气路,不单独设计气路,掺杂气路上等间距设有多个气孔,可实现均匀出气,保证了掺杂效果的良好,提高了气掺单晶的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 区熔单晶 均匀 线圈 | ||
【主权项】:
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