[实用新型]一种LPCVD系统法兰炉门

摘要

本实用新型涉及法兰炉门技术领域，且公开了一种LPCVD系统法兰炉门，包括连接壁和活动炉门，所述活动炉门位于连接壁的一侧，所述连接壁四周开设有开孔，所述连接臂靠近正面的一侧外壁上固定安装有第一连接块。该LPCVD系统法兰炉门，当需要进行该活动炉门的快速密封操作时，储气箱通过一侧石英管和出气头往活动炉门的一侧输入气体，以气体形式提供构成薄膜的原料，反应尾气由排气口排除，通过控制面板控制加热块的温度到适宜高度，热能除加热基板到适当温度之外，还对气体分子进行激发、分解，促进其反应，分解生成物或反应产物沉积在基板表面形成薄膜，使活动炉门与连接壁一侧凹槽之间快速密封。