[实用新型]一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构有效
| 申请号： | 201921382751.9 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN210917384U | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 金雪峰;罗慧瑜 | 申请（专利权）人： | 广州市天作建筑规划设计有限公司 |
| 主分类号： | E02D17/04 | 分类号： | E02D17/04 |
| 代理公司： | 东莞市浩宇专利代理事务所(普通合伙) 44460 | 代理人： | 石艳丽 |
| 地址： | 510000 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于基坑支护技术领域，尤其为一种可局部减少周围环境变形的基坑支护结构。其中，所述地下室外墙体贴合设置在所述地下连续墙上；所述外墙暗梁固定设置在所述地下室外墙体上；所述底层板固定设置在所述地下室外墙体的底部；所述楼层板固定设置在所述地下室外墙体上且位于所述底层板的上方。本实用新型通过地下室外墙体与地下连续墙连为一体形成的复合墙，有效阻止了基坑支护结构和周边环境持续变形，解决了现有基坑支护结构会造成周围环境持续变形过大的缺陷，并利用地下室底层板、楼层板以及外墙暗梁混凝土施工时产生的向基坑外侧膨胀力形成对地下连续墙的支撑防护压力，达到局部减少周围环境变形的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 局部 减少 周围环境 变形 基坑 支护 结构 | ||
【主权项】：
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