[实用新型]一种改善化学气相沉积加热均匀度的装置

摘要

本实用新型公开了一种改善化学气相沉积加热均匀度的装置，包括工艺腔和底板；工艺腔：工艺腔的底面两侧设有环形滑轨，环形滑轨上滑动连接有反应室；底板：底板的表面两侧均设有支座，两个支座上设有升降单元，升降单元包括支座、第一电机、丝杠、滑块、支杆、固定板和高频感应加热器，支座内设有滑槽，滑槽侧面开有通槽，滑槽底部设有第一电机，第一电机的输出轴上设有丝杠，滑块的侧面开有螺纹孔，且滑块通过螺纹孔与丝杠螺纹连接，滑块的侧面与滑槽的内侧面和通槽的侧面滑动连接，本改善化学气相沉积加热均匀度的装置采用立体全方位加热，使晶片受热更加充分和均匀，可以有效改善加热均匀度。