[实用新型]光学成像膜有效
| 申请号： | 201921395612.X | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN210401721U | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 郑伟伟;申溯;孙超 | 申请（专利权）人： | 昇印光电（昆山）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 王刚;龚敏 |
| 地址： | 215316 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例提供一种光学成像膜，包括：聚焦层，具有两个或两个以上的聚焦结构；图文层，具有两个或两个以上的微图文；辅助层，辅助层用于掩盖至少部分的微图文的部分图案，且微图文未被辅助层掩盖的部分形成子图文，以使至少部分的子图文设置为微图文的部分图案；其中，聚焦层与图文层相适配，且聚焦结构与子图文对应设置，以使光学成像膜呈现微图文的影像，且为具有放大效果的影像。本申请中，该光学成像膜包括辅助层，该辅助层用于掩盖至少部分微图文的部分图案，辅助层能够对从微图文反射进入聚焦结构而未参与莫尔成像的光线具有一定的遮挡作用，从而消除或减少杂散光，以提高莫尔成像的清晰度，从而提高成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 成像 | ||
【主权项】：
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