[实用新型]一种溅射镀膜机的辅助冷却系统有效
申请号: | 201921428056.1 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN210620927U | 公开(公告)日: | 2020-05-26 |
发明(设计)人: | 唐志强;姜钧 | 申请(专利权)人: | 承德奥斯力特电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/54 |
代理公司: | 北京方韬法业专利代理事务所(普通合伙) 11303 | 代理人: | 朱丽华 |
地址: | 067000 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种溅射镀膜机的辅助冷却系统,包括依次通过管道连接的储气罐、制冷装置、电磁阀、流量调节阀和溅射辅助室,溅射辅助室设置在溅射真空室内的基片运行轨道上,且至少位于第一溅射室的后方。还包括设置在溅射辅助室内的温度传感器,和与温度传感器、电磁阀和流量调节阀连接的控制器。辅助冷却系统包括两个以上的溅射辅助室,两个以上的溅射辅助室间隔设置在多个溅射室之间。本实用新型能实现对溅射镀膜过程中基片温度的降低,防止基片温度太高导致的氧化或变色现象的发生,提高溅射镀膜产品的外观。还通过多个溅射辅助室的设置,实现对需要多次溅射镀膜基片的多次冷却,能更好的控制溅射镀膜基片的温度,保证溅射镀膜基片的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 溅射 镀膜 辅助 冷却系统 | ||
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