[实用新型]一种用于封装模具的流动平衡结构有效

专利信息
申请号: 201921439629.0 申请日: 2019-09-02
公开(公告)号: CN211105282U 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 童华 申请(专利权)人: 东和半导体设备(南通)有限公司
主分类号: B29C45/26 分类号: B29C45/26;B29C45/27;H01L21/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种用于封装模具的流动平衡结构,包括下模座,所述下模座的内部右侧设置有第一模腔,所述下模座的内部左侧设置有第二模腔,所述下模座的底端焊接有支撑板,所述支撑板的表面开设有调节槽,所述下模座的顶端设置有上模座,所述上模座的表面开设有注口,所述下模座的顶端表面开设有导流孔。该用于封装模具的流动平衡结构,通过旋转螺栓的底部配合螺母,达到调整堵头与导流孔底端的开口间隙,方便调节导流孔内的流通速率;当堵头下落至与密封板接触时,导流座与堵头形成漏斗形结构,提高了流通槽内铸模流动时的平衡性,保证了流通槽内的铸模材料能够均匀导流到第一模腔和第二模腔内,从而提高了产品生产的质量。
搜索关键词: 一种 用于 封装 模具 流动 平衡 结构
【主权项】:
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