[实用新型]一种电磁耦合抛光设备有效
申请号: | 201921443075.1 | 申请日: | 2019-08-29 |
公开(公告)号: | CN211219930U | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 黄展亮;潘继生;阎秋生;罗斌 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B41/06 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 陈伟斌 |
地址: | 510006 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种电磁耦合抛光设备,包括多层驱动输入结构、用于装设电磁流变抛光液的电场盘结构以及磁极盘摆动结构,磁极盘摆动结构用于电磁流变抛光液在动态磁场的作用下形成实时磨料更新自锐和形状恢复的柔性抛光垫,电场盘结构产生的电场与磁极盘摆动结构产生的磁场相耦合以提高柔性抛光垫的剪切应力和粘度;其中多层驱动输入结构包括基座、设于基座上的偏心传动部分以及主传动部分,磁极盘摆动结构设于偏心传动部分上,电场盘结构设于主传动部分上。本实用新型中电场盘结构产生的电场与磁极盘摆动结构产生的磁场相耦合提高柔性抛光垫的剪切应力和粘度,从而实现对工件表面的高效超光滑加工。 | ||
搜索关键词: | 一种 电磁 耦合 抛光 设备 | ||
【主权项】:
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