[实用新型]一种适用于曲面成像的焦平面探测器有效

专利信息
申请号: 201921494573.9 申请日: 2019-09-10
公开(公告)号: CN210862938U 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 叶振华;张伟婷;陈星;刘丰硕;孙常鸿 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G01J5/20 分类号: G01J5/20;H01L27/144
代理公司: 上海沪慧律师事务所 31311 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 专利提供一种适用于曲面成像的焦平面探测器,所述的适用于曲面成像的焦平面探测器包括:支撑衬底;赋形焦平面阵列,位于所述支撑衬底的表面,赋形焦平面阵列和支撑衬底的曲面形状保持一致。采用这种结构可以始终保持光线聚焦在焦平面探测器上,不需要通过复杂的光学校正计算便可以保证最大程度的成像效果,该结构适合大视场、大面阵高分辨率成像。所述的制备方法使用了PDMS柔性模具对硅基焦平面进行赋形,并且使用紫外固化材料和紫外光照进行定形,过程简单,成形过程不需要复杂昂贵的仪器和设备,并且制备效率高。
搜索关键词: 一种 适用于 曲面 成像 平面 探测器
【主权项】:
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