[实用新型]气闸室平衡系统有效
| 申请号： | 201921594961.4 | 申请日： | 2019-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN210379003U | 公开（公告）日： | 2020-04-21 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677;H01L21/67 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 虞凌霄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种气闸室平衡系统，包括：逆止阀组件，用于控制连接气闸室与大气的平衡管道内气体向远离气闸室的方向单向流动；压力监测系统，用于监测气闸室内压力值的变化是否异常。通过逆止阀组件使得平衡管道内的气体均向远离气闸室的方向单向流动，因此当气闸室内压力检测失真导致平衡阀打开后，如果气闸室内的腔体压力值实际上小于外界压力值，通过平衡管道灌入气闸室的气流会被逆止阀组件阻断，从而减少气体回灌导致的微尘进入气闸室的情况，通过检测打开平衡阀后的气闸室的腔体压力值，能够及时发现压力检测失真从而进行维修调整，使得在新一轮工作中压力正常检测，通过上述技术方案，能够有效减少压力回灌现象，降低产品报废几率。 | ||
| 搜索关键词： | 气闸 平衡 系统 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
