[实用新型]光学膜涂布用料槽有效

专利信息
申请号: 201921595388.9 申请日: 2019-09-24
公开(公告)号: CN211160503U 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 金星南 申请(专利权)人: 苏州捷纳华电子科技有限公司
主分类号: B05C11/11 分类号: B05C11/11;B05C11/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及了光学膜加工领域,具体的是一种光学膜涂布用料槽。它包括用于输入胶液的进液口和连通进液口的沉积槽,沉积槽包括左侧板、右侧板和底板,右侧板内开设有连通进液口的“冂”形进液通道,沉积槽内设置有第一连接件和第二连接件,第一连接件和第二连接件均呈L形,第二连接件包括相互连接的第一连接板和第二连接板,第一连接板和右侧板之间形成导向通道。本实用新型通过第二连接板以及设置在第二连接板和底板之间的沉积通道的设置,可以使得胶液中的杂质沉积到沉积通道中,并且通过第二连接板可以阻挡因震动而翻起的杂质,减少杂质对光学膜涂覆的影响,进而保证光学膜的良率,提高光学膜的生产效率,降低生产成本。
搜索关键词: 光学 膜涂布 用料
【主权项】:
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