[实用新型]一种VAD法提升控制装置有效
| 申请号： | 201921604185.1 | 申请日： | 2019-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN212102579U | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 顾金祥;周钰楠;杜森;王友兵;李赵华;吴振伟;简晓松;马睿;万志斌;连坤;吴学渊;胡景;鲁阳 | 申请（专利权）人： | 江苏亨通光导新材料有限公司;江苏亨通光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C03B37/014 | 分类号： | C03B37/014 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 杜丹盛 |
| 地址： | 215200 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种VAD法提升控制装置，其降低了物料的成本、且使得松散体提升时直线状态稳定可靠。其包括沉积腔体主体，所述沉积腔体主体包括底部沉积壳体、上部高度方向导向壳体，所述高度方向导向壳体顶板的中心位置设置有中心安装孔，其还包括有N个高度方向顺次排布的固定筒，其中N为大于等于2的自然数，每个所述固定筒包括筒体、顶部外凸定位环、底部内收定位环、底部外凸环形限位，所述筒体的顶部外环周设置有径向外凸的顶部外凸定位环，所述筒体的底部内壁设置有径向内凸的底部内收定位环，所述筒体的底部外环周设置有径向外凸的底部外凸环形限位。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 vad 提升 控制 装置 | ||
【主权项】：
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