[实用新型]一种防静电光罩有效
申请号: | 201921623220.4 | 申请日: | 2019-09-27 |
公开(公告)号: | CN210573181U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 姜维智;黄荣瑞;冯国豪 | 申请(专利权)人: | 芯恩(青岛)集成电路有限公司 |
主分类号: | G03F1/40 | 分类号: | G03F1/40 |
代理公司: | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人: | 陈敏 |
地址: | 266555 山东省青岛市黄岛区*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型提供一种防静电光罩,所述光罩在光罩图形外侧设置有静电保护结构,所述静电保护结构包括多个间隔设置的放电结构,不仅可使光罩上积累的静电电荷在远离光罩图形处进行尖端放电,保证光罩图形完整性及晶圆良率;还可在其基础上有效减少光罩在制备静电保护结构时的复杂度及时间。同时每个放电结构均包括至少一个放电单元,每个放电单元包括实体放电部分和镂空部分,本实用新型提供了多种镂空部分的结构图形,对应不同的实体放电部分图形,并给出各图形数量、尺寸规格、排列组合方式以及各放电单元数量、组合连接方式的多种变化形式,使光罩可应对静电放电过程中产生的不同大小的静电电流,大大提升光罩的静电防护能力及其应用范围。 | ||
搜索关键词: | 一种 静电 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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