[实用新型]掩膜装置有效
申请号: | 201921634873.2 | 申请日: | 2019-09-27 |
公开(公告)号: | CN210514931U | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 王乡 | 申请(专利权)人: | 珠海迈时光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 叶琦炜 |
地址: | 519000 广东省珠海市香洲区南屏*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及显示面板曝光技术领域,公开了一种掩膜装置,解决了无需取下掩膜架,则可实现掩膜板的直接更换。本实用新型包括:掩膜架,设有用于吸附待加工件的真空吸附孔;框架,与所述掩膜架转动连接,使所述掩膜架在所述框架内翻转。本实用新型利用掩膜架与框架的转动连接,可使掩膜架直接在框架上实现翻转,则在更换待加工件时,无需将掩膜架取下,只要翻转掩膜架,即可在框架上对待加工件进行更换,不仅简化了待加工件更换的操作流程,同时还可避免对掩膜架造成污染,避免了影响成品质量,从而提高了成品合格率。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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