[实用新型]一种耐高温多弧离子真空镀膜机装置有效

专利信息
申请号: 201921666955.5 申请日: 2019-10-08
公开(公告)号: CN211112191U 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 费明跃;张云;张文龙 申请(专利权)人: 赫得纳米科技重庆有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/56
代理公司: 重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙) 50221 代理人: 林慰敏
地址: 402776 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 实用新型涉及真空镀膜机技术领域,且公开了一种耐高温多弧离子真空镀膜机装置,包括真空镀膜机主体,所述真空镀膜机主体的右侧固定安装有抽真空管,所述抽真空管的左侧贯穿并延伸至真空镀膜机主体的右侧内壁,所述真空镀膜机主体的内部从左到右依次转动连接有滑动杆与螺纹杆,所述滑动杆与螺纹杆背面的一端均与真空镀膜机主体的后侧内壁转动连接,所述滑动杆与螺纹杆正面的一端均与真空镀膜机主体的前侧内壁转动连接。该实用新型,整个装置沉积在真空镀膜机主体内底壁的原料进行刮除,而不需要在将使用后打开转动门从内部清理,使装置在需要进行清理时只需启动电机便可以清理,从而有效的提高了装置的实用性。
搜索关键词: 一种 耐高温 离子 真空镀膜 装置
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