[实用新型]气体收集系统及原子层刻蚀设备有效
| 申请号： | 201921719524.0 | 申请日： | 2019-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN211045371U | 公开（公告）日： | 2020-07-17 |
| 发明（设计）人： | 陈景春 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种气体收集系统及原子层刻蚀设备，该气体收集系统，应用于原子层刻蚀设备，原子层刻蚀设备包括工艺腔室及供气管路，供气管路向工艺腔室实时供应工艺气体，包括收气管路和收气机构；收气机构通过收气管路与供气管路选择性连通；当供气管路与工艺腔室处于未连通状态时，收气机构收集供气管路内的工艺气体；并且当供气管路与工艺腔室需要处于连通状态时，收气机构与供气管路断开。应用本实用新型，可以将本来被抽至排气管中的工艺气体进行回收，便于提纯后再利用，可以节省大量工艺气体，有效降低了工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 收集 系统 原子 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
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