[实用新型]一种带遮板的电浆蚀刻反应室有效
| 申请号： | 201921755091.4 | 申请日： | 2019-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN210349769U | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 林俊成;郑耀璿;陈英信 | 申请（专利权）人： | 鑫天虹（厦门）科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 厦门律嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 35225 | 代理人： | 温洁;李增进 |
| 地址： | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种带遮板的电浆蚀刻反应室，包括机壳、基座、第一电极、第二电极、铝基板、陶瓷板，机壳内部形成一容室，机壳内壁上设有绝缘板；基座设于容室的下方，第二电极设于该基座上；铝基板设置在第二电极上用于承载晶圆；机壳上方开有一通孔，陶瓷板封盖该通孔，第一电极设于该陶瓷板上方；还包括有遮板，遮板设置在陶瓷板下方，并且该遮板靠近陶瓷板一端的末端设有一导角，该导角与陶瓷板之间形成间隙；遮板及导角由绝缘材料制成。本实用新型的导角设计，使得溅镀覆盖在陶瓷板和遮板上的金属不导通，克服高密度电浆无法形成的问题；而且可以减少反应室的维护工作量及次数。另外，本实用新型使用平板陶瓷即可满足要求，设备成本降低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 带遮板 蚀刻 反应 | ||
【主权项】：
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