[实用新型]一种毫米波可控温背景辐射测量室有效
| 申请号： | 201921841599.6 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN211086143U | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 胡飞;苏金龙;郭泰华 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G01N22/00 | 分类号： | G01N22/00;G05D23/19 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种毫米波可控温背景辐射测量室，包括支撑隔热层、均匀背景层、透波隔热层、温度传感器、进气口、气体制造单元、温度控制单元、电源供给单元；支撑隔热层、均匀背景层和透波隔热层组成半球形三层结构；支撑隔热层采用真空金属壁，均匀背景层中铺满吸波材料，透波隔热层采用泡沫材料。气体制造单元通过进气口向均匀背景层灌输预设温度的气体，并根据多个温度传感器实时反馈的罩内温度自动调整气体制造单元的运行功率，维持吸波材料温度在温控范围内的某一指定温度值。该设备可实现在背景环境各个方向上具有均匀的毫米波辐射，以实现对物体毫米波辐射测量中环境因素的控制，通过提高待测物品与环境的亮温差异，提高测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 毫米波 可控 背景 辐射 测量 | ||
【主权项】：
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