[实用新型]一种用于光学镀膜机的出料机构有效

专利信息
申请号: 201921850917.5 申请日: 2019-10-29
公开(公告)号: CN210854222U 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 张大鹏;樊静波 申请(专利权)人: 广东东华光电科技有限公司
主分类号: B65G47/26 分类号: B65G47/26;B65G15/22;B65G15/40
代理公司: 东莞卓为知识产权代理事务所(普通合伙) 44429 代理人: 汤冠萍
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种用于光学镀膜机的出料机构,包括底座,底座的上端固定安装有缓冲装置,缓冲装置包括第一传送带和与第一传送带两侧转动连接的支撑板,支撑板的下端固定安装有第一电机,支撑板的上端固定安装有挡板,挡板上成型有若干个通孔,通孔内固定安装有冷却风扇;缓冲装置的一侧固定安装有分隔装置,分隔装置包括第二传送带和与第二传送带两侧转动连接的支撑杆,支撑杆的下方固定安装有第二电机,第二传送带的表面成型有若干个凹槽;有益效果是:缓冲装置将零件有序地排布在第一传送带上,不会造成成品堆积在出料口,利用分隔装置,把每个零件送入到凹槽内,从而对每个零件个体进行保护,不会造成零件之间的互相接触与摩擦。
搜索关键词: 一种 用于 光学 镀膜 机构
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