[实用新型]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201921902275.9 | 申请日： | 2019-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN210443521U | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 刘洋 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种等离子体处理装置，包括：气路部件，气路部件为环形腔体结构，气路部件具有多个第一出气孔和多个第二出气孔，多个第一出气孔沿环形腔体周向间隔分布，且第一出气孔贯穿环形腔体的下壁，第一出气孔的轴线与环形腔体的轴线平行；多个第二出气孔沿环形腔体周向间隔分布，且第二出气孔的轴线与环形腔体的轴线形成一倾斜角。从多个第一出气孔出来的气流沿环形腔体的轴线方向竖直吹向晶圆的周边区域；从多个第二出气孔出来的气流向晶圆圆心方向倾斜，增大了晶圆中心区域的气流，从而提高晶圆中心区域的活化度，使晶圆表面的活化度趋于一致，使待键合的晶圆的表面键合力均匀，进而提高键合质量。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司，未经武汉新芯集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201921902275.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
