[实用新型]一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置

摘要

本实用新型涉及一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件制备装置，所述制备装置包括磁控靶、样品架和样品挡板，所述磁控靶倾斜设置，所述样品架设在磁控靶的下方，所述样品架的样品台为板状，且内部设有加热器，样品台上方设置样品罩，所述样品罩具有多个样品通孔。所述样品挡板设在样品台的上方，且水平放置，样品挡板包括气缸、转挡轴、支柱、两个转挡连片和两个挡板，所述气缸的活塞连接并能够带动转挡轴做伸缩运动，所述支柱的底部垂直固定在转挡轴上，支柱的顶端同时连接两个转挡连片的前端，两个转挡连片的后端分别连接两个挡板，所述支柱通过两个转挡连片分别带动两个挡板相互靠近或相互远离。