[实用新型]一种高抗弯强度钐钴永磁体有效

专利信息
申请号: 201921944616.9 申请日: 2019-11-12
公开(公告)号: CN210805391U 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 文图辉;卢佳;姚水金;徐新帮;陈丽;张惠芳;陈芳 申请(专利权)人: 杭州永磁集团有限公司
主分类号: H01F7/02 分类号: H01F7/02
代理公司: 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 代理人: 沈相权
地址: 311201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及一种高抗弯强度钐钴永磁体,所属钐钴永磁体技术领域,包括位移滑块,位移滑块正端面上设有切刀块,位移滑块背面设有与切刀块相沉孔螺栓相连接的摆杆组件,摆杆组件与切刀块间设有与位移滑块相腰圆式贯穿的限位螺栓,摆杆组件下端设有与位移滑块相螺栓式轴承连接固定的钐钴式凸轮件,钐钴式凸轮件与限位螺栓间设有贯穿摆杆组件、位移滑块、切刀块的固定螺栓,位移滑块上设有若干与摆杆组件、切刀块相平行且贯穿位移滑块的丝杆螺纹孔。钐钴式凸轮件包括钐钴永磁体拨块,钐钴永磁体拨块上设有凸轮,凸轮上设有与位移滑块相螺栓连接紧固的凸轮轴承。具有结构强度高、运行稳定性好和使用寿命长的特点。提高装配精度和工作效率。
搜索关键词: 一种 抗弯强度 永磁体
【主权项】:
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