[实用新型]高纯度锗晶体材料的表面处理装置有效
申请号: | 201921954056.5 | 申请日: | 2019-11-13 |
公开(公告)号: | CN211199475U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 吴绍华;王柯;姚杨;南曲哲;郭晨宇;史娜娜;张二平;孙兴;赵竟宇;杨伟声;王元康;木锐 | 申请(专利权)人: | 云南北方驰宏光电有限公司 |
主分类号: | C30B33/10 | 分类号: | C30B33/10;C30B29/08 |
代理公司: | 西安东灵通专利代理事务所(普通合伙) 61242 | 代理人: | 李思琼 |
地址: | 655000 *** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本实用新型公开了高纯度锗晶体材料的表面处理装置,涉及光学元件加工技术领域,为解决现有技术中,传统的锗晶体材料的表面处理方式存在的酸洗设备昂贵、操作难度大、对人员的能力要求较高的技术问题,本实用新型的技术方案如下:本实用新型中的高纯度锗晶体材料的表面处理装置,包括盛放锗晶体材料的盛料槽、垫条和加热器;所述盛料槽固定于加热器的发热面,所述盛料槽的顶部为敞开结构,侧面上部开设进水口,所述进水口与进水管路连接,所述进水管路上设有体积流量计和进水阀,所述进水口相对的盛料槽侧面下部开设出水口,所述出水口与出水管路连接,所述出水管路上设有出水阀。 | ||
搜索关键词: | 纯度 晶体 材料 表面 处理 装置 | ||
【主权项】:
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