[实用新型]一种PECVD沉积腔支撑装置

摘要

本实用新型公开了一种PECVD沉积腔支撑装置，包括：等离子体外壳；三通道气体流量计外壳，所述三通道气体流量计外壳设置在等离子体外壳的一端；真空泵外壳，所述真空泵外壳设置在三通道气体流量计外壳的一端；管式炉外壳，所述管式炉外壳设置在三通道气体流量计外壳的顶端；支撑块，所述支撑块的数量为十二个，每四个为一组，分别设置在所述等离子体外壳、三通道气体流量计外壳和真空泵外壳的底端。该PECVD沉积腔支撑装置，在工作前，将千斤顶支撑好，转动摇把，通过转动机构将轱辘收回到支撑块的内腔里，再使千斤顶归位，利用支撑块进行支撑；需要搬运时，利用千斤顶将设备支起，反向转动摇把，将轱辘转出支撑块，即可搬运，实用性强。