[实用新型]一种用于高真空环境下的中子屏蔽管道有效

专利信息
申请号: 201921981713.5 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN212303103U 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 王鹏程;敬罕涛;李强;黄涛;孙晓阳 申请(专利权)人: 散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所
主分类号: G21G4/02 分类号: G21G4/02
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 郭燕
地址: 523808 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种用于高真空环境下的中子屏蔽管道,包括:由屏蔽材料制成的内管,和套设在内管外壁上的外管;所述内管的外径与所述外管的内径基本相同,所述内管的延伸方向、延伸长度与所述外管的延伸方向、延伸长度均一致;所述外管用于向内管提供真空环境,所述内管的内壁围合成用于供中子输运的通道;所述内管的内壁、外壁及端面均匀涂覆有预设厚度的涂覆层,所述涂覆层用于降低内管的出气率。由屏蔽材料制成的内管不仅能够有效的屏蔽核辐射的影响,还能在涂覆层的作用下,降低内管的出气率,不会对真空环境产生影响,可在高真空环境中使用。
搜索关键词: 一种 用于 真空 环境 中子 屏蔽 管道
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所,未经散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201921981713.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top