[实用新型]一种二极管酸洗装置有效
| 申请号： | 201921999231.2 | 申请日： | 2019-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN210984699U | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 周健 | 申请（专利权）人： | 天水天嘉电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L29/861 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 蒋秀清 |
| 地址： | 741000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种二极管酸洗装置，涉及二极管制造领域。该装置包括酸洗桶及酸洗桶侧壁上设有的进酸管、出酸管，所述酸洗桶内设有可升降的圆盘型酸洗板，酸洗桶顶部盖设有可分离的酸洗盖，酸洗盖直径不小于酸洗桶顶部内壁直径。本实用新型的装置用于酸洗浸泡二极管时利用酸洗盖盖住酸洗桶，减少酸雾蒸发和对人体与环境的伤害；设置加热管保证酸洗温度，桶内设搅拌装置提高酸洗效率，酸洗板沥干后通过卡接结构更换酸洗板继续进行酸洗，方便快捷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二极管 酸洗 装置 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
