[实用新型]局部涂层石英坩埚有效
申请号: | 201922012438.2 | 申请日: | 2019-11-20 |
公开(公告)号: | CN211079401U | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 王建军;李常国;邓红;何玉鹏 | 申请(专利权)人: | 宁夏富乐德石英材料有限公司 |
主分类号: | C30B15/10 | 分类号: | C30B15/10;C30B29/06 |
代理公司: | 宁夏合天律师事务所 64103 | 代理人: | 郑重;孙彦虎 |
地址: | 750021 宁夏回*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
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摘要: | 本实用新型提供一种局部涂层石英坩埚,属于坩埚制造技术领域。在坩埚本体的底部外侧涂覆有诱发析晶层,诱发析晶层由诱发析晶相物质组成,其中,诱发析晶相物质包括氧化钙、氧化镁、氧化钛、氧化钡、碳酸钡、氧化锆、氧化铝中的至少一种。在高温拉晶过程中,诱发析晶层的诱发析晶物质可引发坩埚本体底部的石英由玻璃态转变成晶体态,在石英玻璃态转变为晶体态过程中,体积变化很小,诱发析晶层附着牢固,不会导致坩埚本体的底部开裂,晶体态石英具有高致密性且活性较低,可有效提高坩埚本体底部强度,在硅单晶拉制收尾阶段,可有效抵抗高温导致的底部变形,提高拉晶产出,提高所述坩埚本体的使用效率,降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 局部 涂层 石英 坩埚 | ||
【主权项】:
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