[实用新型]一种单体镀膜机有效
申请号: | 201922016023.2 | 申请日: | 2019-11-20 |
公开(公告)号: | CN212223088U | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 张绍璞;范刚;王长湖 | 申请(专利权)人: | 厦门阿匹斯智能制造系统有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郭锦辉;陈艺琴 |
地址: | 361000 福建省厦门市集美*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种单体镀膜机,包括真空泵组,真空腔体,工件转架以及高功率脉冲磁控溅射靶;所述真空腔体与所述真空泵组相连接,所述工件转架及高功率脉冲磁控溅射靶位于所述真空腔体内,所述高功率脉冲磁控溅射靶的数量为至少一套,所述工件转架围绕所述其中一套高功率脉冲磁控溅射靶设置。本实用新型可将所镀膜层的a(红绿)值推至10以上,b(黄蓝)值推至35以上并能够在较高的a、b值区间获得更高的L(亮暗)值;因为大幅提升了离化率从而提升了工艺调整的可重复性精度;由于该镀膜系统沉积速率很高,因此可根据工艺条件大幅减少生产周期,预计会从目前的70分钟/炉,减少到45分钟/炉。 | ||
搜索关键词: | 一种 单体 镀膜 | ||
【主权项】:
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