[实用新型]清洗设备

摘要

本实用新型公开了一种清洗设备，其用于正面经扩散掺杂后的硅片清洗，包括用以在所述硅片两表面形成氧化层的化学氧化槽、用以去除所述硅片背面所述氧化层与所述硅片背面磷硅玻璃或硼硅玻璃的背面酸洗槽、用以抛光所述硅片背面的抛光槽、以及用以去除所述硅片正面所述氧化层与所述硅片正面磷硅玻璃或硼硅玻璃的正面酸洗槽，所述化学氧化槽、所述背面酸洗槽、所述抛光槽与所述正面酸洗槽依次排列；基于本实用新型所提供的清洗设备，在硅片扩散掺杂后，能够高质量完成硅片的清洗工作。