[实用新型]一种PECVD制程腔离子源扩散板上料装置

摘要

本实用新型公开了一种PECVD制程腔离子源扩散板上料装置，包括沉积箱腔体、推动装置和安装装置；使用时，启动转动电机带动转动盘进行转动使得转动杆进行转动，使得摆动杆进行摆动进而带动连接杆和推动杆对扩散板进行左右的推动，在将扩散板放置在下电极板放入两侧，有效地将离子化的气体向两侧扩散并均匀地向抽气口扩散，致使在两电极板中的等离子体也可均匀地向两侧扩散，增加等离子体面积，同时也增加薄膜沉积的面积，勿需将极板扩大的情况下，有效地增大等离子体沉积面积，对于装置的制造成本及节约能源有相当的效果。