[实用新型]一种用于等离子射流设备的选择性气体吸附罐

摘要

本实用新型涉及等离子体射流设备领域，具体涉及一种用于等离子射流设备的选择性气体吸附罐，包括罐体，所述罐体的一端设有进气管道，罐体的另一端设有出气管道，罐体内设有气体净化管道，所述气体净化管道内填充有吸附滤材，所述进气管道通过气体净化管道与所述出气管道连通，进气管道和出气管道设置为圆柱状，气体净化管道设置为扁平状，进气管道、出气管道和气体净化管道的径向截面面积相等，本实用新型与传统的等离子射流设备气体源相比对气体进行吸附净化，同时通过开启不同位置的阀门进行气体选择，控制流出气体的氧含量，最终达到一个控制等离子设备射流种类的目的。