[实用新型]进气装置及半导体设备有效
| 申请号： | 201922098407.3 | 申请日： | 2019-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN211897166U | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 赵万辉 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B29/06;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种进气装置及半导体设备，该进气装置用于向半导体设备的工艺腔室提供工艺气体，包括主进气管路、第一组支进气管路、第二组支进气管路及调压机构；调压机构与主进气管路相连接，用于控制主进气管路内的气体流量稳定在预设范围；主进气管路的出气端分别与第一组支进气管路、第二组支进气管路的进气端相连接；第一组支进气管路、第二组支进气管路的出气端分别与工艺腔室连通，用于将工艺气体输送至工艺腔室内的指定区域；第一组支进气管路、第二组支进气管路上分别设置有支路气体流量调节装置。应用本实用新型可以实现单独调节基片某区域的工艺气体流量，提高了工艺稳定性，有利于基片整体厚度均匀性的优化。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 半导体设备 | ||
【主权项】：
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