[实用新型]一种磁控溅射镀膜仪换样装置

摘要

本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜仪换样装置，包括真空室主腔及真空室副腔，所述真空室主腔与真空室副腔之间中间腔室，所述中间腔室分别与真空室主腔与真空室副腔相连通，所述中间腔室内部设有导轨，所述导轨上配合设置导轨小车，所述导轨小车上设有基片储备盘，所述基片储备盘上沿其周向设有一组基片架，基片架上设有基片；所述导轨小车在导轨上水平移动，从而将基片架在真空室主腔与真空室副腔之间进行转移，进而实现基片的转移。本实用新型的有益效果是：通过设置中间腔室，并设置导轨及导轨小车，从而实现基片在真空室副腔和真空室主腔之间的快速高效转移，节省成本，缩减真空室空间。