[实用新型]浸润式光阻涂布装置有效
| 申请号： | 201922183973.4 | 申请日： | 2019-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN211180528U | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 林刘恭 | 申请（专利权）人： | 光群雷射科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 韩嫚嫚;赵燕力 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型有关于一种浸润式光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，浸润式光阻涂布装置包括：一基座、装有光阻材料的一容器及一圆柱形滚轮。基座具有一第一致动构件；圆柱形滚轮设置于一轮轴上，并与第一致动构件电性连接。其中第一致动构件能使圆柱形滚轮与容器产生一相对位移，且在光阻材料以浸润式涂布于圆柱形滚轮后的状态下，第一致动构件能于容器中或容器外旋转圆柱形滚轮，以将光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮上。本实用新型的浸润式光阻涂布装置，可使光阻材料涂布地更均匀且缩短制作时间。 | ||
| 搜索关键词： | 浸润 式光阻涂布 装置 | ||
【主权项】：
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