[实用新型]用于涂覆容器的设备

摘要

本实用新型涉及一种用于涂覆容器的设备，具有：用于产生真空的至少一个真空装置；用于以等离子体涂覆容器的至少一个处理站，其中处理站与真空装置流体连通，并且其中处理站具有能够被引入至容器中的至少一个处理装置；用于在输送路径P上输送容器的传送装置；和用于接收至少一个容器的至少一个支撑元件，其中支撑元件能够相对于容器的输送路径P沿不同于零的方向移动且适于将容器引入至处理站中，其中封闭元件被布置在支撑元件上且适于以基本上不透气的方式封闭处理站。实用新型所要解决的技术问题是处理站位于旋转设备的旋转部件上，处理站和加工介质都承受着高离心力。实用新型的用途是使旋转设备相对灵活。