[实用新型]一种化学气相沉积装置有效
| 申请号： | 201922245061.5 | 申请日： | 2019-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN211872085U | 公开（公告）日： | 2020-11-06 |
| 发明（设计）人： | 黄启忠;胡祥龙;蔡昌海;周岳兵;刘庆敖 | 申请（专利权）人： | 中南大学;湖南顶立科技有限公司;安徽弘昌新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/46 | 分类号： | C23C16/46 |
| 代理公司： | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 郑久兴 |
| 地址： | 410000*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种化学气相沉积装置，包括：壳体，所述壳体内具有沉积腔；第一电极，所述第一电极伸入所述沉积腔内；第二电极，所述第二电极伸入所述沉积腔内，所述第二电极与所述第一电极相对设置；所述第一电极和所述第二电极用于使电流流经衬底，产生热量。本实用新型的化学气相沉积装置，电流直接流经需要气相沉积的衬底，使衬底自身直接发热，避免了间接加热产生的热量损失，不仅电效率高，而且升温速度快。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
